Fachausschuss Chemische Metallabscheidung

Porträtfoto Dr. Ingolf Scharf

Leitung: Dr. Ingolf Scharf

Chemiestudium an der TU Chemnitz (1997–2002)

Promotion am Lehrstuhl für Organische Chemie der TU Chemnitz (2003–2006)

Wissenschaftlicher Mitarbeiter an der TU Chemnitz (ab 2006) und

Leiter der Abteilung Galvanische und Chemische Oberflächentechnik, Professur Werkstoff- und Oberflächentechnik (seit 2010)

Nehmen Sie Kontakt zu uns auf. Wir freuen uns!

E-Mail: ingolf.scharf@mb.tu-chemnitz.de

Tel.: +49 (0) 371 5313 5189

Im Fokus: Chemisch Nickel

  • Identifikation neuer Forschungsthemen (neue chemische Verfahren, Ringversuche zur Schicht-Charakterisierung, Wärmebehandlungs-Kataloge etc.
  • Steigerung der Ressourcen und Energieeffizienz chemischer Beschichtungsverfahren
  • Recycling von chemischen Elektrolyten
  • Bekanntmachen des Chemisch-Nickel-Verfahrens bei potenziellen Anwendern

Aktuelle Aktivitäten 2020

  • Erarbeitung eines Wikipedia-Artikels zu Chemisch Nickel
  • DGO-Umfrage zur Ausbildungssituation in der Galvanotechnik in Deutschland
  • Planung IGF-Projekt: Verschleißverhalten von wärmebehandelten Chemisch-Nickel-Schichten

Bei ihrem Treffen am Rande der ZVO-Oberflächentage am 11. September 2019 in Berlin informierte der Fachausschuss Chemische Metallabscheidung über außenstromlose Metallabscheidung sowie über in Vorbereitung befindliche FuE-Projekte.

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Chemisch abgeschiedene Nickel-Phosphor-Legierungen sind aufgrund ihrer einstellbaren Schichteigenschaften vielseitig anwendbar. Sie können daher sowohl zum Korrosions- als auch zum Verschleißschutz eingesetzt werden.

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