Dr. Martin Leimbach präsentierte den aktuellen Zwischenstand des IGF-Projekts „Außenstromlos Chrom(III)“, innerhalb dessen auch einige FA-Mitglieder im projektbegleitenden Ausschuss vertreten sind. Dr. Leimbach führte u.a. aus, dass aussichtsreiche Kandidaten für geeignete Komplexbildner identifiziert werden konnten, an denen aktuell jedoch noch Untersuchungen u.a. hinsichtlich deren Stabilität im Gange sind. Eine Herausforderung besteht darin, dass es bislang nur gelungen sei, Schichtdicken >50 nm abzuscheiden. Diverse Lösungsansätze sind demnach Gegenstand aktueller Forschungsaktivitäten.

Ein weiteres Kernthema bildete wiederholt die Diskussion um das Verbot von perfluorierten Alkylsubstanzen (PFAS) der ECHA. Als Reaktion sind einige FA-Vertreter momentan dabei, entsprechende FuE-Projekte zum Thema PFAS-Ersatz zu generieren. In der Galvanotechnik werden PFAS bspw. in Form von PTFE-Partikeln in Chemisch-Nickel-Dispersionsbeschichtungen oder als Tenside bei der Chromabscheidung verwendet. Zwar existieren mit nicht oder teilweise fluorierten Tensiden entsprechende Alternativen, diese werden im Prozess jedoch sehr schnell oxidativ zersetzt und beeinträchtigen die Funktionstüchtigkeit der Prozesslösungen.

Weiteres Thema der Sitzung war der umgreifende Fachkräftemangel innerhalb der Branche, der sich sowohl in der rückläufigen Zahl der Auszubildenden in den Betrieben als auch der Studierenden u.a. an der FH Aalen niederschlägt. Von betrieblicher Seite seien daher das Werben auf lokalen Ausbildungsmessen und/oder Schnuppertage im betrieblichen Umfeld sinnvoll bzw. ratsam.

Dr. Gaël Osowiecki von der Electroless Technology AG (CH) stellte zum Abschluss der Sitzung das One-Plate Chemisch-Nickel-Verfahren vor, mit dem sowohl low-, mid- und highphos-Schichten bei gleichzeitig sehr hoher Badbelastung abscheidbar sind. Die nächste FA-Sitzung ist für März 2024 bei Novoplan in Aalen geplant.